深圳恒歌 DF 系列氣體擴散器過濾器，是專為半導體制程中真空腔體快速放氣應用打造的核心裝備。這款產品創新性融合了擴散器的優化氣流特性與高效過濾器的精密攔截能力，通過獨特的結構設計，在實現 0.003μm 超高過濾精度的同時，徹底規避排氣過程中的湍流干擾，為光刻、蝕刻等核心制程的真空腔體環境提供全方位保護，堪稱半導體制造中的 “潔凈衛士”。

產品特點

● 納米級精準過濾：采用不銹鋼粉末燒結介質，過濾精度達 0.003μm，有效攔截超細微顆粒，防止工藝污染。

● 湍流控制設計：全 316L 不銹鋼結構優化氣流路徑，避免排氣時產生湍流，防止顆粒揚起或硅片移位。

● 全材質防腐耐用：整體 316L 不銹鋼打造，耐高溫、耐高壓且耐腐蝕，適配各類嚴苛工藝氣體環境。

● 潔凈級生產保障：從制造、測試到包裝全程在潔凈室完成，通過 100% 完整性與氦氣泄漏檢測。

● 靈活定制適配：可根據安裝空間個性化設計，完美適配不同腔體布局與氣路系統。

應用場景

作為關鍵的工藝保護組件，廣泛應用于微電子半導體晶圓制程中各類真空腔體的快速放氣環節：在光刻工藝腔室中，保障排氣時硅片表面不受顆粒污染;在蝕刻設備中，防止湍流干擾工藝氣體分布;在薄膜沉積系統中，通過超純過濾提升薄膜均勻性。尤其適配需要頻繁進行真空破真空操作的生產設備，為 12 英寸及更大尺寸晶圓制造提供穩定的潔凈環境支持。