CVD 化學氣相沉積供氣系統是半導體、光伏、精密陶瓷等行業的核心工藝設備，通過將反應氣體精準輸送至沉積腔體，在基材表面形成均勻薄膜，其供氣純度直接決定薄膜質量與器件性能，是高端制造業的關鍵環節。

為何需要使用過濾器？

CVD 工藝對氣體純度要求極高，哪怕 0.1μm 的微粒雜質都可能導致薄膜缺陷、針孔、附著力下降，進而造成器件失效；同時反應氣體多為腐蝕性或易燃易爆氣體，過濾器需兼顧凈化效果與安全適配性，是保障 CVD 制程穩定的核心部件。

產品介紹

恒歌 TF 系列 CVD 化學氣相沉積供氣系統專用過濾器，專為半導體級工藝設計，聚焦 UHP 超純氣體凈化需求。采用無死體積結構設計，避免污染物殘留，316L 不銹鋼全材打造適配腐蝕性反應氣體，安裝無需焊接，確保密封無憂，為 CVD 工藝提供純凈氣流保障。

產品特點

? 半導體級超高顆粒攔截率，對 0.01μm 微粒攔截效率≥99.999%

? 316L 不銹鋼 + PTFE 密封材質，耐溫可達 200℃，耐高壓≤10MPa

? 低流阻設計，確保反應氣體輸送穩定，不影響沉積工藝參數

? 適用于潔凈室 Class 1 環境，制造、測試、包裝全程無二次污染

? 100% 完整性測試 + 氨氣檢漏，滿足半導體行業嚴苛標準

? 可提供 F 直通型 / T 型 / W 型一體式結構，適配不同安裝場景

產品應用

半導體芯片薄膜沉積工藝、光伏電池片鍍膜系統、精密陶瓷制備 CVD 設備、LED 外延片生長供氣系統、集成電路封裝 CVD 工藝

常見問答

Q：能否適配 CVD 常用的硅烷、氨氣等反應氣體？

A：完全適配！316L 不銹鋼材質耐腐蝕性優異，可兼容硅烷、氨氣、氟化氫等絕大多數 CVD 反應氣體。

Q：過濾精度是否滿足半導體行業標準？

A：滿足！產品符合 SEMI F20 標準，過濾精度最低可達 0.003μm，適配 ppb 級氣體凈化需求。

Q：安裝后會影響供氣系統的壓力穩定性嗎？

A：不會！低阻力設計確保壓力損耗≤0.05MPa，不改變 CVD 工藝的氣體流量與壓力參數。

Q：是否支持在線更換濾芯？

A：支持部分型號在線更換，無需拆卸管道，減少停機時間，提升生產效率。

選型指引

如果您不確定適配的濾芯材質、過濾精度或耐溫耐壓參數，歡迎聯系我們，結合您的 CVD 工藝氣體類型與設備參數，提供專業選型建議！